圖像轉移有兩種方法，一種是網印圖像轉移，一種是光化學圖像轉移。
網印圖像轉移比光化學圖像轉移成本低，在生產批量大的情況下更是如此，但是網印抗蝕印料通常只能制造大于或等于o.25mm的印制導線，而光化學圖像轉移所用的光致抗蝕劑朗制造分辨率高的清晰圖像。
本章所述內容為后一種方法。光化學圖像轉移需要使用光致抗蝕劑，下面介紹有關光致抗蝕劑的一些基本知識：
1)增塑劑
可增加干膜抗蝕劑的均勻性和柔韌性。三乙二醇雙醋酸脂可作為增塑劑。
2)增粘劑
可增加干膜光致抗蝕劑與銅表面的化學結合力，防止因粘結不牢引起膠膜起翹、滲鍍等弊 病。常用的增粘劑如苯并三氮唑。
3)熱阻聚劑
在干膜的生產及應用過程中，很多步驟需要接受熱能，為阻止熱能對干膜的聚合作用加入 熱阻聚劑。如甲氧基酚、對苯二酚等均可作為熱阻聚劑。
4)色料
為使干膜呈現鮮艷的顏色，便于修版和檢查而添加色料。如加入孔雀石綠、蘇丹三等色料 使干膜呈現鮮艷的綠色、蘭色等。
5)溶劑
為溶解上述各組份必須使用溶劑。通常采用丙酮、酒精作溶劑。 此外有些種類的干膜還加入光致變色劑，使之在曝光后增色或減色，以鑒別是否曝光，這 種干膜又叫變色于膜。
干膜光致抗蝕劑的結構
干膜光致抗蝕劑由聚酯薄膜，光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護膜三部分組成：
1、聚酯薄膜是支撐感光膠層的載體，使之涂布成膜，厚度通常為25μm左右。聚酯薄膜在曝 光之后顯影之前除去，防止曝光時氧氣向抗蝕劑層擴散，破壞游離基，引起感光度下降。
2、聚乙烯膜是復蓋在感光膠層上的保護膜，防止灰塵等污物粘污干膜，避免在卷膜時，每層 抗蝕劑膜之間相互粘連。聚乙烯膜一般厚度為25μm左右。
3、光致抗蝕劑膜為干膜的主體，多為負性感光材料，其厚度視其用途不同，有若干種規格，最薄的可以是十幾個微米，最厚的可達100μm。
干膜光致抗蝕劑的制作是先把預先配制好的感光膠在高清潔度的條件下，在高精度的涂 布機上涂覆于聚酯薄膜上，經烘道干燥并冷卻后，覆上聚乙烯保護膜，卷繞在一個輥芯上。
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